PVD 금속 타겟 99.9% 티타늄 플레이트 타겟

티타늄 플레이트 타겟은 다양한 표면에 얇은 필름이나 코팅을 만들기 위해 PVD(물리적 기상 증착) 또는 스퍼터링 공정에서 소스 재료로 사용되는 티타늄 금속의 단단한 조각입니다.

제품 특징:

경량: 티타늄은 밀도가 낮은 것으로 알려져 있어 티타늄 플레이트 타겟에 다른 많은 금속에 비해 상당한 무게 이점을 제공합니다. 이러한 경량 특성은 연비 향상, 성능 향상 및 탑재량 증가를 위해 중량 감소가 요구되는 항공우주, 자동차 및 기타 산업에서 특히 유리합니다.

탁월한 침식 저항성: 티타늄 플레이트 타겟은 침식 및 마모에 대한 뛰어난 저항성을 나타냅니다. 이러한 특성으로 인해 고속 유체 흐름, 마모성 입자 또는 화학 처리 및 석유 및 가스 산업의 펌프, 밸브, 구성 요소와 같은 열악한 환경과 관련된 응용 분야에 적합합니다.

PVD 또는 스퍼터링 중에 고에너지 이온 빔이 티타늄 플레이트 타겟을 향하게 되어 타겟의 원자가 방출되어 기판 표면을 향해 이동하게 됩니다. 방출된 원자는 기판 표면에 증착되어 얇은 필름이나 코팅을 형성합니다.

티타늄 플레이트 타겟은 내식성, 생체 적합성, 우수한 기계적 및 열적 안정성을 포함한 티타늄의 고유한 특성으로 인해 항공우주, 생체 의학, 전자, 광학 등의 산업에서 널리 사용됩니다.

우수한 접착력: 티타늄 플레이트 타겟에서 증착된 박막은 다양한 기판에 우수한 접착력을 나타내므로 우수한 기계적 특성을 지닌 고품질 코팅 및 박막 생산이 가능합니다.

티타늄 플레이트 타겟은 다양한 응용 분야에 적합한 몇 가지 독특한 특징을 가지고 있습니다.

1. 박막 증착: 티타늄 판 스퍼터링 타겟은 기판에 박막을 증착하기 위해 물리적 기상 증착(PVD) 공정에서 자주 사용됩니다. 이러한 박막은 내마모성, 내식성 또는 장식 목적과 같은 기능성 코팅에 사용될 수 있습니다.

2. 반도체 제조: 반도체 산업에서 티타늄 박막 타겟은 집적 회로 및 기타 마이크로전자 장치 제조에 활용됩니다. 이 제품은 스퍼터링 공정에서 배리어층, 인터커넥트 및 접촉층을 포함한 다양한 용도로 티타늄층을 증착하는 데 사용됩니다.

3. 태양 에너지: 티타늄 플레이트 타겟은 광전지 및 태양광 패널 생산에 중요한 역할을 합니다. 이는 스퍼터링 시스템에서 티타늄 산화물과 같은 투명 전도성 산화물(TCO) 층을 증착하는 데 사용되며, 이는 광 투과율과 전기 전도성을 향상시켜 태양 ​​전지의 효율성을 향상시킵니다.

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